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以下表面處理工藝的14項(xiàng)技術(shù)大全,看看你都了解過哪些方法: 真空電鍍 / ?6 ^1 z2 v. O9 W, r. M0 ~, o
真空電鍍(Vacuum Metalizing):一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 典型產(chǎn)品:反射涂層,消費(fèi)電子產(chǎn)品和隔熱板的表面處理 產(chǎn)量適合:?jiǎn)渭酱笈拷钥?/font> 質(zhì)量:高質(zhì)量,高亮和產(chǎn)品表面保護(hù)層 速度:中等的生產(chǎn)速度,6小時(shí)/周期(包括噴漆) 適用材料 1、很多材料可以進(jìn)行真空電鍍,包括金屬,軟硬塑料,復(fù)合材料,陶瓷和玻璃。其中最常見用于電鍍表面處理的是鋁材,其次是銀和銅。 2、自然材料不適合進(jìn)行真空電鍍處理,因?yàn)樽匀徊牧媳旧淼乃謺?huì)影響真空環(huán)境。 工藝成本 真空電鍍非常依賴人工操作,真空電鍍過程中,工件需要噴涂,裝載,卸載和再噴涂,所以人力成本相當(dāng)高,但是也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量。 環(huán)境影響 真空電鍍對(duì)環(huán)境污染很小,類似于噴涂對(duì)環(huán)境的影響。 實(shí)例展示 杜卡迪摩托的真空電鍍 香水瓶的真空電鍍 其他產(chǎn)品真空電鍍 電解拋光
+ d; r' z2 c6 T1 w- o6 t$ a電解拋光(Electropolishing):以被拋光工件為陽極,不溶性金屬為陰極,兩極同時(shí)浸入到電解槽中,通以直流電離反應(yīng)而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解,從而達(dá)到工件表面除去細(xì)微毛刺和光亮度增大的效果。 典型產(chǎn)品:建筑結(jié)構(gòu),食物處理儲(chǔ)存和醫(yī)療制藥 產(chǎn)量適合:?jiǎn)渭酱笈拷钥?/font> 質(zhì)量:表面高亮,光滑且衛(wèi)生 速度:中等的生產(chǎn)速度,5-30分鐘/周期 適用材料 1.大多數(shù)金屬都可以被電解拋光,其中最常用于不銹鋼的表面拋光(尤其適用于奧氏體核級(jí)不銹鋼)。 2.不同材料不可同時(shí)進(jìn)行電解拋光,甚至不可以放在同一個(gè)電解溶劑里。 工藝成本 電解拋光整個(gè)過程基本由自動(dòng)化完成,所以人工費(fèi)用很低。 環(huán)境影響 電解拋光采用危害較小的化學(xué)物質(zhì),整個(gè)過程需要少量的水且操作簡(jiǎn)單,另外可以延長不銹鋼的屬性,起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。 實(shí)例展示 電解拋光清理焊接縫 其他產(chǎn)品電解拋光 光蝕刻表面處理 + j6 N' V, k% I- \
光蝕刻表面處理(Photo Etching):簡(jiǎn)稱光刻,利用照相手段制作抗蝕膜像,用來保護(hù)表面,在金屬、塑料等上面,借助化學(xué)腐蝕劑進(jìn)行腐蝕產(chǎn)生表面紋理的方法。 典型產(chǎn)品:用于珠寶首飾,銘牌和獎(jiǎng)杯的表面處理 產(chǎn)量適合:?jiǎn)渭酱笈拷钥?/font> 質(zhì)量:延長曝光和化學(xué)物質(zhì)都可以實(shí)現(xiàn)光蝕刻表面處理 速度:中等的生產(chǎn)速度(50-100微米/5分鐘) 適用材料 1.大多是金屬都適合光蝕刻表面處理,最常見的有不銹鋼,軟鋼,鋁,黃銅,鎳,錫,銅和銀。其中鋁材的光蝕刻速度最快,而不銹鋼的光蝕刻速度最慢。 2.玻璃,陶瓷也適合光蝕刻表面處理,只是需要不同的光阻蝕劑和化學(xué)物質(zhì)。 工藝成本 1.模具費(fèi)用低 2.人力成本中等 環(huán)境影響 光蝕刻產(chǎn)生的金屬廢屑須做可控回收;用于光蝕刻的化學(xué)物質(zhì)還有三分之一的氯化鐵,而且也會(huì)用苛性鈉(火堿)來處理廢棄的感光膠片,這兩種化學(xué)物質(zhì)都是有害的,所以操作人員在處理時(shí)需要穿防護(hù)服。 實(shí)例展示 金屬標(biāo)牌的光蝕刻 (來源jiajuxia) 2 z; p( ?9 s9 E6 o
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