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本帖最后由 sf-1224 于 2019-3-25 19:13 編輯
大家好,最近碰到一個(gè)自動(dòng)清潔cmos的難題,請(qǐng)熟悉此工藝的工程師幫忙支支招,謝謝!詳細(xì)下面表述:
背 景:一個(gè)類似照相機(jī)的設(shè)備,在無塵室進(jìn)行裝配,其中有個(gè)清潔cmos的工藝。
清潔要求:a.無明顯劃痕、臟污或者點(diǎn)塵;b.不損傷器件
現(xiàn)有工藝:清潔→檢測(cè)。人工用棉簽/細(xì)纖維無塵布蘸無水乙醇(≥99.7%)清潔,再用10倍顯微鏡觀察效果。效果不錯(cuò)!
問 題:如何實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化?有沒有更好的方式清潔?如何檢測(cè)?
目前方案:利用清潔機(jī)構(gòu)+細(xì)纖維無塵布(H009 6"*6")+無水乙醇/純水的方式清潔;CCD檢測(cè)。(不知道靠不靠譜,能不能達(dá)到10倍顯微鏡的放大效果?)
方案說明:產(chǎn)品上方放置一個(gè)移動(dòng)平臺(tái),串行完成清潔、抽塵和檢測(cè)工作。注:此方案目前在考慮階段,還有很多不足,請(qǐng)大家輕拍!
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