哈工大為國內(nèi)頂尖學府,此前在14納米光刻機上就研發(fā)成功了重要的光刻機技術(shù),為國產(chǎn)14納米光刻機的量產(chǎn)提供了有力支持,近日哈工大再傳來炸裂性的消息,研發(fā)成功EUV光刻機光源,這將是美國和ASML以LCC EUV聯(lián)盟壟斷EUV光刻機之外的首次。
據(jù)稱哈工大研發(fā)的“電能轉(zhuǎn)化等離子體線路”技術(shù),可以實現(xiàn)DPP-EUV光源,為國產(chǎn)的EUV光刻機打開了一扇門,這也是EUV光刻機的重要核心技術(shù)之一。
國產(chǎn)芯片制造工藝一直無法突破7納米,就在于美國阻止ASML對中國出售EUV光刻機,早在2018年中芯國際就向ASML支付了1.2億美元訂購EUV光刻機,然而至今ASML都未向中芯國際交付EUV光刻機。
去年下半年以來,美國又進一步加強了光刻機出口限制,要求ASML不要對中國出售14納米及以下的EUV光刻機,早前ASML表示它可以對中國出售1980Di光刻機,然而這只是一款38納米光刻機,遠遠無法滿足中國的需求。
為此中國開始極力推動國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展,而哈工大就多次研發(fā)成功重要的光刻機技術(shù),為國產(chǎn)光刻機的發(fā)展提供了有力支持,這次再研發(fā)成功EUV光刻機光源,為國產(chǎn)EUV光刻機的量產(chǎn)推進了一大步。
ASML是一家荷蘭企業(yè),為何美國能對ASML擁有如此巨大的影響力,原因就在于多年來美國為ASML提供了諸多的技術(shù)支持,將ASML從一家茍延殘喘的光刻機廠商變成如今的光刻機巨頭,占有光刻機市場近六成的市場份額。
2005年之前,全球的光刻機市場主要為日本的佳能、尼康占據(jù),它們占有八成的市場份額,而ASML當時甚至只能托庇在飛利浦旗下,而飛利浦只是給ASML一家毫不起眼的辦公室,畢竟當時的ASML實在看不到希望。
2005年臺積電的林本堅研發(fā)出浸潤式光刻機技術(shù),而日本的佳能、尼康生產(chǎn)干式光刻機,它們看不上林本堅的浸入式光刻機技術(shù),那時候茍延殘喘的ASML找上了臺積電,孤注一擲研發(fā)浸潤式光刻機技術(shù),由此迅速在光刻機市場打開局面。
此后美國希望打壓日本的光刻機產(chǎn)業(yè),強制日本的光刻機企業(yè)貢獻先進光刻機技術(shù),后來美國更聯(lián)合ASML成立LCC EUV聯(lián)盟,卻排斥了佳能和尼康,由此ASML更成為全球唯一可以生產(chǎn)EUV光刻機的廠商,由此建立了ASML壟斷光刻機市場的地位,如此也就不奇怪為何ASML屢屢聽從美國的要求了。
如今中國在美國的壓力下,不斷加強國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展,乃至哈工大先后拿出浸潤式光刻機技術(shù)、EUV光刻機技術(shù),中國的光刻機廠商可望成為ASML之后另一家量產(chǎn)先進光刻機的廠商,打破ASML壟斷光刻機市場多年的局面,由此ASML近期慌亂之下表態(tài)指中國自研光刻機將打亂全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈,印證了中國在光刻機技術(shù)上的重大突破。 |