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光刻機(jī)做成“光刻廠”,靠不靠譜?

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發(fā)表于 2023-9-19 16:42:11 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式

距離華為Mate 60 pro突然開售已經(jīng)過去半個月,線上預(yù)訂的粉絲們最近都陸續(xù)收到了新機(jī)。


但由于華為官方一直沒有召開手機(jī)發(fā)布會,因此這款手機(jī)上依然有非常多的謎團(tuán)等待解開。


就例如,這顆突然“空降”的麒麟9000s處理器,究竟算不算5G芯片?華為又是如何在重重封鎖下,“手搓”這顆純國產(chǎn)芯片呢?


在這里,我們就不對華為背后的技術(shù)和進(jìn)行過多揣測,但可以肯定的是,國產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)在近期有不小的突破。


巧的是,就在最近,一項來自清華大學(xué)的光刻機(jī)技術(shù)在網(wǎng)絡(luò)上火了起來,簡單來說,就是把光刻機(jī)做得足夠大,就能生產(chǎn)出EUV光刻機(jī)需要的光源。



這樣的腦洞,不僅路人們聽上去玄乎,就連不少技術(shù)人員也表示了驚嘆。


一時間,網(wǎng)上的解讀和質(zhì)疑聲也是層出不窮。


什么是SSMB

這項由清華大學(xué)提出的技術(shù),專業(yè)術(shù)語名叫“穩(wěn)態(tài)微聚束”(steady-state micro-bunching),簡稱SSMB,是一種新型的粒子加速器光源。


最早由清華大學(xué)杰出訪問教授趙午教授與其博士生于2010年提出,并在2017年,與清華大學(xué)工程物理系教授唐傳祥合作,共同發(fā)起理論實驗。


在2022年的中國物理學(xué)會秋季學(xué)術(shù)會議上,研究組成員潘志龍?zhí)岬搅擞蒘SMB技術(shù)造出來的光刻機(jī),叫作“SSMB-EUV”光刻機(jī),而這也正是最近討論的話題的來源。


圖源 |寇享學(xué)術(shù)


SSMB背后涉及的原理非常復(fù)雜,筆者并不能完全解釋,所以這里就結(jié)合幾位科普博主的講解視頻,簡單進(jìn)行一點概括。


首先,光刻機(jī)的原理,是利用光刻機(jī)發(fā)出的光源,通過設(shè)定好圖形的光罩,對涂有光刻機(jī)的硅板進(jìn)行曝光,從而“刻”出電子線路圖,再進(jìn)行一些后期加工,最終形成芯片的雛形。


如果光源的波長越短、功率越大,這樣的“光刀”就更加鋒利,“雕刻”出來的電子線路圖也就更加精密,芯片的性能與算力也就越強(qiáng)。目前,波長僅為13.5nm的極紫外光(EUV),是高端芯片的唯一選擇。


從電磁波譜上看,EUV已經(jīng)非常接近X-射線,這么高的能量,單靠物理操作很難實現(xiàn)。


ASML采用的是LPP模式,通過一臺功率大于20 kW的CO2氣體激光器轟擊液態(tài)錫,形成等離子體,從而產(chǎn)生極紫外光。


圖 |LPP-EUV


在找到EUV光源解決方案后,加上多年以來的光刻技術(shù),ASML做出業(yè)內(nèi)最頂尖的EUV光刻機(jī),最終壟斷了整個市場。


值得一提的是,為ASML提供EUV技術(shù)的是美國公司Cymer,這是全球唯一能夠提供商用EUV光源的公司,國內(nèi)自然無法從外部解決光源問題。


不過,實現(xiàn)EUV光源的方案不止一種,清華大學(xué)團(tuán)隊想到了用加速器加速電子,從而產(chǎn)生高功率的輻射。


簡單來說,電子只要加速運(yùn)動,就會發(fā)射電磁波,理論上只要加速度夠快,那么必然出現(xiàn)符合EUV波長的“光子”。


但光有一個“光子”還不夠,想做光刻機(jī)需要穩(wěn)定的“光束”。


研究人員發(fā)現(xiàn),當(dāng)電子束繞過加速器后,受到磁場的作用,會形成精細(xì)的微結(jié)構(gòu),這種就是“微聚束”。


圖源 | 《自然》雜志


再讓這些微聚束穿入激光陣列,通過激光與電子的相互作用,形成有一定間隔,相對聚集的排列,就這樣,微聚束被“穩(wěn)態(tài)”地保持了。


就這樣,穩(wěn)態(tài)微聚束呈現(xiàn)出極紫外光的高功率與短波長,算得上一種全新的EUV光源解決思路。


光刻機(jī)做成“光刻廠”,靠不靠譜?

解釋完SSMB技術(shù),光刻廠又是怎么一回事?


在網(wǎng)上,有人把“SSMB-EUV”光刻機(jī)稱作光刻工廠,甚至給出了工廠所在的地河北雄安新區(qū),并貼出了相關(guān)圖片(注:網(wǎng)傳圖片為高能同步輻射光源項目,并非SSMB設(shè)施)。


據(jù)悉,除了3nm工藝外,4nm、7nm、14nm、28nm,但凡你聽說過的芯片制程工藝,都能在這個光刻工廠里解決。


圖源 | 微博


為了更好地理解,有人形象地將光刻工廠比喻成籃球架——如果說以前最中心的籃筐里(3nm)難度很大,那么就多加幾個籃筐(其他工藝),只要投籃次數(shù)夠多,總能投到最中心籃筐,而投不進(jìn)的話,掉到其他籃筐里也能得分。


從原理上來說,光刻工廠和SSMB技術(shù)確實有很大的關(guān)聯(lián)性,都是利用電子束加速產(chǎn)生電磁波,從而得到對應(yīng)的波長。由于粒子加速器體積大(加速器周長100-150米),同時需要很多配套設(shè)施,因此占地規(guī)模大也非常正常。


當(dāng)然,方案可行,實施起來并沒有那么容易。


首先,從官方新聞稿看,這次在雄安新區(qū)落地的SSMB-EUV光源設(shè)施項目更接近科研用途,而不是實際生產(chǎn)。


從研發(fā)進(jìn)程來看,SSMB-EUV技術(shù)在2021年在《Nature》雜志上正式刊登,通過原理驗證實驗,想在短時間內(nèi)跨過下一步驗證,走向商用,還要一定時間。


其實,不論是光刻機(jī)還是光刻工廠,光源只是光刻機(jī)中的關(guān)鍵設(shè)備之一,其他配套設(shè)備同樣不可或缺。


作為一種全新的方案,其他國產(chǎn)替代設(shè)備是否適配SSMB-EUV技術(shù),還是一個未知數(shù)。


最后,就是不少人提到的能源消耗和使用成本高的問題,雖然后續(xù)可以通過建造多條生產(chǎn)線將成本攤薄,但這就需要極強(qiáng)的規(guī)劃能力和長期運(yùn)營能力。

總之,方案有了,思路有了,光刻工廠值得期待,但距離實際生產(chǎn)還有一段距離


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發(fā)表于 2023-9-20 09:38:42 | 只看該作者
   不懂,不過看這個宣傳方式就不是好事,大家都知道一個道理叫悶聲發(fā)大財。這種短視頻天天講的,肯定是有某些目的的。
   如果技術(shù)原理沒問題,合理的經(jīng)濟(jì)投入,優(yōu)秀的管理團(tuán)隊,優(yōu)秀的技術(shù)團(tuán)隊再加時間,應(yīng)該是沒問題的。但是這種宣傳就容易有資本介入,也容易引起一些居心不良的人或者國家注意,到時候收買或者安插幾個,可以做決策的人,隨意做幾個錯誤的決策,經(jīng)濟(jì)時間損失就不一定多少。
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2#
發(fā)表于 2023-9-19 18:03:18 | 只看該作者

ヾ(❀╹◡╹)ノ~✧:;
期待~~~~~~···


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3#
發(fā)表于 2023-9-19 19:16:55 | 只看該作者
看了很多這方面的報道,說實話,沒有一家能解釋的清楚這個所謂光刻廠原理的。
也沒有一家能說清中國7納米芯片怎么來的。

點評

現(xiàn)在是立體布置晶體管,而晶體管數(shù)量是按照晶片平面面積折算的,線寬也大于所謂的多少nm。  發(fā)表于 2023-9-20 10:56
同樣的晶體管數(shù)量,面積如果要縮減為原來的一半,那尺寸就該縮減為0.7倍,所以x nm僅僅表示比上一代半導(dǎo)體晶體管密度增加了  發(fā)表于 2023-9-20 08:30
臺積電第一代7nm工藝就是用的DUV,另外所謂xnm,并不是生產(chǎn)的晶體管真的有什么尺寸達(dá)到了x nm,x nm只是一個類似華為mate 6的工藝代號,  發(fā)表于 2023-9-20 08:27
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