硅片甩干的轉(zhuǎn)速一般為多少？

Godzera711 · 發(fā)表于 2021-12-4 21:16:58

如題，單片式的濕法刻蝕機(jī)在刻蝕、用離子水清洗硅片后的甩干速度一般為多少呢？小于1000rpm需要多久的甩干時(shí)間啊有大佬知道嗎

東北制造 · 發(fā)表于 2021-12-5 06:34:25

加溫

遠(yuǎn)祥 · 發(fā)表于 2021-12-7 22:08:17

這個(gè)最好是現(xiàn)場(chǎng)實(shí)物測(cè)量一下。。。

s453575112 · 發(fā)表于 2021-12-8 09:05:26

一般在2000-3000rpm 時(shí)間在30s左右對(duì)于 8寸wafer

Godzera711 · 發(fā)表于 2021-12-8 20:36:26

s453575112 發(fā)表于 2021-12-8 09:05
一般在2000-3000rpm 時(shí)間在30s左右對(duì)于 8寸wafer

好的，謝謝您

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硅片甩干的轉(zhuǎn)速一般為多少？